TSV高頻損耗檢測
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發(fā)布時間:2025-05-14 08:07:09 更新時間:2025-05-13 08:17:16
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作者:中科光析科學(xué)技術(shù)研究所檢測中心
TSV(Through-Silicon Via)高頻損耗檢測是現(xiàn)代三維集成電路封裝技術(shù)中的關(guān)鍵質(zhì)量控制環(huán)節(jié)。隨著半導(dǎo)體工藝節(jié)點不斷縮小和三維集成技術(shù)的快速發(fā)展,TSV作為芯片垂直互連的核心結(jié)構(gòu),其高" />
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發(fā)布時間:2025-05-14 08:07:09 更新時間:2025-05-13 08:17:16
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作者:中科光析科學(xué)技術(shù)研究所檢測中心
TSV(Through-Silicon Via)高頻損耗檢測是現(xiàn)代三維集成電路封裝技術(shù)中的關(guān)鍵質(zhì)量控制環(huán)節(jié)。隨著半導(dǎo)體工藝節(jié)點不斷縮小和三維集成技術(shù)的快速發(fā)展,TSV作為芯片垂直互連的核心結(jié)構(gòu),其高頻信號傳輸性能直接影響著系統(tǒng)整體性能。特別是在5G通信、高速計算和高頻雷達等應(yīng)用領(lǐng)域,TSV的高頻損耗特性決定著信號完整性、系統(tǒng)帶寬和能耗效率。當工作頻率達到GHz級別時,TSV的趨膚效應(yīng)、介質(zhì)損耗和阻抗不連續(xù)性等問題會顯著加劇,導(dǎo)致信號衰減、時序偏差和信噪比下降。因此,精確測量和評估TSV在高頻條件下的損耗特性,對保證3D IC產(chǎn)品的可靠性、優(yōu)化TSV設(shè)計參數(shù)以及提高量產(chǎn)良率都具有重大工程價值。
TSV高頻損耗檢測主要包含以下關(guān)鍵項目:1) 插入損耗(Insertion Loss)測量,評估信號通過TSV結(jié)構(gòu)后的功率衰減;2) 回波損耗(Return Loss)檢測,反映阻抗匹配情況和信號反射程度;3) 串擾特性分析,測量相鄰TSV間的信號耦合干擾;4) 特征阻抗測試,確保與傳輸線阻抗匹配;5) 品質(zhì)因數(shù)(Q值)測定,表征能量存儲與損耗比。檢測頻率范圍通常覆蓋1GHz-40GHz,需針對不同應(yīng)用場景選擇特征頻段,如5G毫米波應(yīng)用需重點檢測28GHz/39GHz等頻點性能。
完成TSV高頻損耗檢測需要配置專業(yè)儀器系統(tǒng):1) 矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀(VNA)是核心設(shè)備,推薦使用Keysight PNA系列或R&S ZVA系列,要求頻率上限≥40GHz且動態(tài)范圍>120dB;2) 高頻探針臺配備GSG或GG型微波探針,探針間距需匹配TSV陣列節(jié)距;3) 校準基板執(zhí)行SOLT(Short-Open-Load-Thru)校準,確保測量參考面準確;4) 溫控平臺用于評估溫度對損耗特性的影響;5) 屏蔽測試環(huán)境滿足-80dBc以上的電磁隔離要求。對于亞微米級TSV結(jié)構(gòu),還需配備高精度光學(xué)定位系統(tǒng)輔助探針對準。
標準檢測流程遵循以下步驟:1) 系統(tǒng)校準:使用阻抗標準件在測試頻段內(nèi)完成全端口校準,殘余誤差應(yīng)<0.1dB;2) DUT安裝:將TSV測試結(jié)構(gòu)芯片固定在真空吸盤上,通過顯微鏡精確定位;3) 探針接觸:采用微米級位移平臺實現(xiàn)探針與Pad的可靠接觸,接觸電阻<0.5Ω;4) 參數(shù)設(shè)置:配置掃描頻段、IF帶寬(建議100Hz-1kHz)和點數(shù)(不少于801點);5) 數(shù)據(jù)采集:連續(xù)三次測量取平均值,同步記錄S11/S21參數(shù);6) 去嵌入處理:采用OPEN/SHORT法扣除測試夾具影響;7) 數(shù)據(jù)分析:提取特征頻點損耗值,繪制損耗-頻率曲線。整個過程需在23±1℃、濕度<40%RH的潔凈環(huán)境中進行。
TSV高頻損耗檢測主要遵循以下標準:1) JEDEC JEP181 TSV電氣特性測試指南;2) IEEE Std 1785-2016三維互連測試標準;3) IEC 60745高頻測量不確定度評定規(guī)范;4) SEMI E158晶圓級高頻測試方法。其中JEP181明確規(guī)定:在26GHz頻段,單個TSV的插入損耗應(yīng)<0.15dB/um,回波損耗>15dB;測試結(jié)構(gòu)需包含不少于3×3的TSV陣列,測試Pad尺寸需滿足50Ω阻抗設(shè)計。對于不同工藝節(jié)點,28nm以下制程要求增加AC阻抗一致性測試,3D IC堆疊結(jié)構(gòu)需進行端到端(End-to-End)系統(tǒng)級損耗評估。
檢測結(jié)果需根據(jù)應(yīng)用場景分級評判:1) 消費級產(chǎn)品要求10GHz頻段插入損耗<1.2dB/mm,回波損耗>12dB;2) 工業(yè)級要求15GHz下?lián)p耗<0.8dB/mm,回波損耗>15dB;3) 軍工/航天級要求40GHz頻段損耗<0.5dB/mm,回波損耗>18dB。測試數(shù)據(jù)離散度應(yīng)控制在±5%以內(nèi),相鄰TSV間損耗偏差<0.03dB。對于異常樣本,需結(jié)合時域反射(TDR)分析定位損耗來源:介質(zhì)損耗占比>60%需優(yōu)化絕緣層材料;導(dǎo)體損耗主導(dǎo)時應(yīng)改善銅填充工藝;阻抗突變引起的反射損耗需重新設(shè)計TSV錐度結(jié)構(gòu)。最終檢測報告應(yīng)包含S參數(shù)矩陣、損耗頻譜圖、批次統(tǒng)計CPK值等關(guān)鍵數(shù)據(jù)。
證書編號:241520345370
證書編號:CNAS L22006
證書編號:ISO9001-2024001
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